一种抗腐蚀性复合SiO2膜的制备方法及应用
权证编号: CN200610155919.3
基本信息
名称:一种抗腐蚀性复合SiO2膜的制备方法及应用
权证编号: CN200610155919.3
申请日:
转让方:大连理工大学
技术领域
C23C18/12,C23C18/04
交易信息
交易方式:
挂牌金额（元）:具体面议
挂牌起始日:
挂牌截止日:
摘要
本发明属于金属表面改性与防腐技术领域，涉及金属表面耐腐蚀性薄膜的 制备方法。其特征在于改进高温水热法，采用钠-钙玻璃为主要硅源，LiBr溶液 同时作为硅溶剂和金属基体活化剂，使金属基体活化与SiO2沉积同时进行，边 活化边沉积的工艺使得膜层的成分有效的穿插，无需后续热处理，制备耐温、抗 腐蚀的无机抗腐蚀性薄膜。该膜层主要成分为SiO2和铁及铬的氧化物，调节基 体的活化速度和硅的沉积速度，可以制备不同成分含量的氧化膜。本发明的效 果和益处是制备的薄膜厚度在3-15μm，可明显提高换热表面的耐腐蚀性，并对 传热特性影响较小；应用于腐蚀性环境下的运输及储存设备中能提高耐蚀性， 延长使用寿命。